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TJ不锈钢微距掩膜版溅射掩掩模激光精密切割微结构加工
- 发布日期：
- 2023/11/2 15:35:42
- 内 容：
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TJ不锈钢微距掩膜版溅射掩掩模激光精密切割微结构加工
掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝*过程将图形信息转移到产品基片上。
掩膜版的应用
每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面。
掩模和光刻工艺是很关键的，因为他们决定着器件的极限尺寸。除了紫外线，电子束和X射线也能用来对光刻胶进行曝* 。
掩模版的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模版作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模版上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后投射在晶圆表面。为了区别于接触式*光中使用的掩模版投影式曝*中使用的掩模又称为倍缩式掩模（reticle） 。
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