XY-1200OTFII系列管式多温区炉采用高纯石英管或高纯氧化铝管作为炉管，工作温度区间800℃至1200℃，客户可根据实际需要选购。每个温区可单独控温，该系列设备的控制系统国际领先，具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。 真空管式炉以进口钼丝为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，可以通气氛抽真空，真空泵可以根据客户要求的真空度选配，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。

主要用途：高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、镀膜、气氛还原、CVD实验、真空退火，碳纳米管及归纳米线的制备等